Большая Советская Энциклопедия (ПЛ)
Шрифт:
Стационарные сильноточные торцевые ускорители. В принципе коаксиальный ускоритель можно сделать стационарным (работающим в непрерывном режиме), если непрерывно подавать в зазор между электродами рабочее вещество (ионизуемый газ). Однако вследствие Холла эффекта при стационарном разряде в ускорителе электрический ток имеет значительную продольную составляющую. Благодаря этому происходит «отжатие» плазмы к катоду, образование прианодных скачков потенциала и т.п., что ведёт к резкому уменьшению кпд. В связи с этим более эффективной оказывается «торцевая» схема (рис. 5, а) с коротким катодом, через который одновременно подаётся рабочее вещество. Ускорение плазмы в торцевом П. у. происходит также в основном за счёт силы Ампера, возникающей при взаимодействии радиальной составляющей jr, тока j с азимутальным магнитным полем Hf. Если при постоянной подаче рабочего вещества непрерывно увеличивать разрядный ток Ip,
На нормально работающих торцевых ускорителях с собственным магнитным полем при разрядных токах около 104 а удаётся получать стационарные потоки плазмы со скоростями ~ 100 км/сек и характерными расходами рабочего вещества ~0,01—0,1 г/сек. При этом напряжение на разряде составляет около 50 в.
Описанный торцевой ускоритель становится неработоспособным не только при больших, но и при малых разрядных токах Ip, поскольку сила Ампера пропорциональна Ip2. Поэтому при /р < 1000 а роль силы Ампера в реальных условиях становится меньше, чем газокинетическое давление, и торцевой П. у. превращается в обычный плазматрон. Чтобы увеличить эффективность торцевого ускорителя при малых мощностях, в рабочем канале создают внешнее магнитное поле (рис. 5, б). Получающийся ускоритель называется торцевым холловским ускорителем, или магнито-плазменным ускорителем. Он позволяет получать потоки плазмы со скоростями в десятки км/сек при мощности ³ 10 квт. Замечательная особенность торцевых ускорителей — способность создавать потоки частиц с энергией, в несколько раз превосходящей приложенную разность потенциалов. На языке динамики частиц это объясняется увлечением ионов за счёт столкновений с электронным потоком, идущим из катода («электронным ветром»).
Б. Плазменные ускорители с внешним магнитным полем
Если требуется получать стационарные потоки малой мощности (lb 10 квт) или потоки частиц с большими скоростями (³ 108см/сек), особенно удобными оказываются так называемые «П. у. с замкнутым дрейфом», один из видов которых схематически изображен на рис. 6. Это осесимметричная система с радиальным магнитным полем в кольцевом ускорительном канале, в котором находится плазма. Работу данного П. у. проще понять, рассматривая динамику электронов и ионов.
Если между анодом и катодом приложить разность потенциалов, то электроны начнут дрейфовать (т. е. двигаться в среднем с постоянной скоростью) перпендикулярно электрическому Е и магнитному Н полям, описывая кривые, близкие к циклоиде. Длина ускорительного канала L выбирается так, чтобы высота электронной циклоиды he была много меньше L (L >> he). В этом случае говорят, что электроны «замагничены». Высота ионной циклоиды hi в силу большой массы (Mi) иона в Mi/me раз превосходит he(me — масса электрона). Поэтому, если сделать длину канала L много меньше hi, то ионы будут слабо отклоняться магнитным полем и под действием электрического поля будут ускоряться практически по прямой линии. Энергия, набираемая ионами в таком ускорителе, близка к разности потенциалов, приложенной между анодом и катодом, умноженной на заряд иона, а разрядный ток близок к току ускоренных ионов. В целом рабочий процесс в описываемом П. у. происходит следующим образом. Рабочее вещество в виде газа или пара поступает через анод в кольцевой ускорительный канал УК (рис. 6). Здесь, попав в облако дрейфующих по азимуту электронов (под действием взаимно перпендикулярных магнитного H и электрического Е полей), нейтральный атом ионизуется. Возникший в процессе ионизации электрон за счёт столкновений с ионами, атомами, стенкой диэлектрической камеры ДК и под влиянием колебаний диффундирует на анод, а ион, ускоренный электрическим полем, покидает канал. Поскольку объёмный заряд ионов, находящихся в канале, всё время компенсирован зарядом дрейфующих электронов, здесь (в отличие от ионных источников) нет ограничений на величину «вытягиваемого» ионного тока.
Применения плазменных ускорителей. Первые П. у. появились в середине 1950-х гг. и уже нашли применение как электрореактивные двигатели, в технологии для чистки поверхностей (методом катодного распыления), нанесения металлических плёнок на различные поверхности, в исследованиях по ионосферной аэродинамике и экспериментальной астрофизике (моделирование космических явлений), в термоядерных исследованиях (в качестве инжекторов плазмы), плазмохимии и т.д. По мере совершенствования конструкции и достижения новых параметров область применения П. у. будет непрерывно расширяться.
Лит.: Плазменные ускорители, под ред. Л. А. Арцимовича [и др.], М., 1973.
А. И. Морозов.
Рис. 5. а — схема торцевого плазменного ускорителя: ДВ — диэлектрическая вставка; б — схема торцевого магнито-плазменного ускорителя: ДВ — диэлектрическая вставка; КМП — катушка магнитного поля; РВ — рабочее вещество.
Рис. 1. Принципиальная схема плазменного ускорителя.
Рис. 2. Схема неизотермического плазменного ускорителя. Электронный пучок, выходящий из электронной пушки ЭП, нагревает электроны в газоразрядной камере ГК и ионизует рабочее вещество РВ, подаваемое в камеру. Образующаяся ускоренная плазма УП под действием перепада электронного давления вытекает, вдоль магнитных силовых линий, создаваемых катушками магнитного поля КМП.
Рис. 3. а — схема радиационного плазменного ускорителя: КМП — катушки магнитного поля; В — волновод; П — плазменный сгусток; ЭВ — электромагнитная волна; б — схема индукционного плазменного ускорителя: В — магнитное поле; ПК — плазменное кольцо; ИК — индукционная катушка; j — ток в плазменном кольце.
Рис. 6. Схема плазменного ускорителя с замкнутым дрейфом. Магнитное поле H создаётся магнитопроводом МПр и катушками КМП.
Рис. 4. а — схема «рельсотрона»: Р — рельсы; П — плазменная перемычка; С — ёмкость; К — ключ; б — схема коаксиального импульсного плазменного ускорителя. Быстродействующий клапан БК подаёт газ в зазор между внутренним ВЭ и наружным НЭ электродами (ДВ — диэлектрическая вставка между электродами). После замыкания ключа К в цепи возникает ток, который ионизует газ.
Плазменный генератор
Пла'зменный генера'тор, то же, что плазматрон.
Плазменный реактор
Пла'зменный реа'ктор, узел плазмохимического или плазменного металлургического агрегата, в котором осуществляются процессы тепло- и массообмена и химические реакции с участием низкотемпературной плазмы (см. Плазменная металлургия, Плазмохимия). П. р. называют не только отдельные узлы, но и плазменные агрегаты в целом. Основные требования к П. р.: получение достаточно полного смешения реагентов; обеспечение требуемой протяжённости зоны взаимодействия; создание условий эффективного тепло- и массообмена при минимальных теплопотерях. Если для генерации плазмы применяются высокочастотные индукционные плазматроны, то возможно совмещение реакционной зоны с объёмом разряда (П. р. так называемого открытого типа). Струйные П. р., в которых плазму получают в виде сформированной струи, подразделяются на прямоточные и со встречными струями (рис.). Увеличение времени контакта реагирующих веществ и интенсификация тепло- и массообмена по сравнению с простейшими струйными прямоточными П. р. достигается в П. р., работающих по схеме встречных струй, в П. р. открытого типа, в П. р. так называемого циклонного типа, а также при наложении на объёмный высокочастотный разряд постоянных электрического и (или) магнитного поля.
Для создания равномерного температурного поля плазменного потока, повышения его мощности, улучшения смешения реагентов и интенсификации тепло- и массообмена перспективны многодуговые П. р.
Лит.: Моссэ А. Л., Печковский В. В., Применение низкотемпературной плазмы в технологии неорганических веществ, Минск, 1973.
Ю. В. Цветков.
Схемы плазмохимических агрегатов со струйным реактором: а — прямоточного типа; б — со встречными струями; 1 — плазматрон; 2 — узел подачи сырья; 3 — плазменный реактор; 4 — закалочный агент; 5 — узел улавливания и обработки продуктов.